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沈陽高新區企業拓荊科技今日科創板上市 打造半導體制造設備領軍企業

來源:高新院 achie.org 日期:2022-04-20 點擊:

  4月20日,拓荊科技股份有限公司(以下簡稱“拓荊科技”)首次公開發行股票并在上海證券交易所科創板上市。拓荊科技成為繼芯源微電子、成大生物后,沈陽市第三家科創板上市公司,也是繼何氏眼科之后,沈陽市今年第二家上市公司。
 
  拓荊科技成立于2010年,主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。公司主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備和次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備3個產品系列,是國內唯一一家產業化應用的集成電路PECVD、SACVD設備廠商,也是國內主要的量產型ALD設備供應商。
 
  拓荊科技是國內半導體設備行業重要的領軍企業之一,3次獲得中國半導體行業協會頒發的“中國半導體設備五強企業”稱號,產品已成功應用于中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲、廈門聯芯、燕東微電子等行業領先集成電路制造企業生產線,產品技術參數已達到國際同類設備水平,并已展開10nm(納米)及以下制程產品驗證測試。據悉,拓荊科技將借登陸科創板重要契機,進一步提升科技研發能力,提高產品性能和技術水平,不斷做強主業,將公司打造成半導體制造薄膜沉積設備領軍企業。
 
  

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沈陽高新區企業拓荊科技今日科創板上市 打造半導體制造設備領軍企業

2022-04-20 來源:高新院 achie.org 點擊:

  4月20日,拓荊科技股份有限公司(以下簡稱“拓荊科技”)首次公開發行股票并在上海證券交易所科創板上市。拓荊科技成為繼芯源微電子、成大生物后,沈陽市第三家科創板上市公司,也是繼何氏眼科之后,沈陽市今年第二家上市公司。
 
  拓荊科技成立于2010年,主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。公司主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備和次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備3個產品系列,是國內唯一一家產業化應用的集成電路PECVD、SACVD設備廠商,也是國內主要的量產型ALD設備供應商。
 
  拓荊科技是國內半導體設備行業重要的領軍企業之一,3次獲得中國半導體行業協會頒發的“中國半導體設備五強企業”稱號,產品已成功應用于中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲、廈門聯芯、燕東微電子等行業領先集成電路制造企業生產線,產品技術參數已達到國際同類設備水平,并已展開10nm(納米)及以下制程產品驗證測試。據悉,拓荊科技將借登陸科創板重要契機,進一步提升科技研發能力,提高產品性能和技術水平,不斷做強主業,將公司打造成半導體制造薄膜沉積設備領軍企業。